Большая печь химической закалки

Печь используется в соответствии с механизмом плазменной диффузии для улучшения состава стеклянной поверхности, так что стеклянная поверхность образует напряжение давления, его основными характеристиками являются высокая прочность стекла после обработки, хорошая термостабильность, стеклянная поверхность остается гладкой, не деформируется, может быть разрезана, нет самовзрыва, простой процесс производства, высокая скорость готовой продукции, особенно подходит для более тонкого стекла и изгибного стекла в различных формах закалки

Печь в соответствии с механизмом плазменной диффузии используется для улучшения состава стеклянной поверхности, так что стеклянная поверхность образует напряжение давления, его основными характеристиками являются высокая прочность стекла после обработки, хорошая термостабильность, стеклянная поверхность остается гладкой, не деформируется, может быть разрезана, нет самовзрыва, простой процесс производства, высокая скорость готовой продукции, особенно подходит для более тонкого стекла и изгибного стекла в различных формах закалки.

основное назначение
1. Стекло электроники: стекло сотового телефона, стекло монитора компьютера, компьютер прикасается к проводящему стеклу, экран, оконное стекло, ионное стекло.
2. Стекло бытовой техники: сканирующее стекло, стекло копировальной машины, ультратонкое стекло шкафа, оконное стекло стиральной машины, плазменное телевизионное стекло.
3.Оптическое стекло: стекло, требующее очень высокой светопроницаемости, стекло, требующее очень высокой прочности, стекло с очень высокой степенью выравнивания, может закалять сверхтонкое стекло, часовое стекло, приборное стекло.

модель	LDH2512	ЛДХ1010
Максимальный размер стекла (мм)	1200×2500	1000 × 1000
Толщина обработанного стекла(мм)	0.5 ~ 12	0.5 ~ 12
Реакторная ванна(мм)	2600 × 800 × 1300	1100 × 800 × 1100
Размер стеклянной корзины(мм)	2500 × 800 × 1200	1000 × 800 × 1000
габариты оборудования(м)	10 × 4 × 3	8 × 2,5 × 3
Скорость производства (кг)	4 - 16час/Печь	4 - 16час/Печь
Общая мощность оборудования(kw)	225	100
мощность реактора химической реакции(kw)	125	60
подогревательный бак/мощность теплового охлаждения(kw)	100	40