Применяется для золирования фоторезиста, удаления фотопредков после LDI, удаления полимеров, удаления фотосопротивления после введения ионов в больших дозах, травления нитридом кремния и карбидом кремния, травления TaSi, применения MEMS (микроэлектронная механическая система), передовых процессов упаковки PR, PI, BCB, PBO), удаления фотосопротивления в процессе радиочастотного фильтра BAW / SAW и т.д.
Камерная плазменная очистительная машина FARI использует усовершенствованную сухую систему деклеирования и травления, может поддерживать крупномасштабное производство и обработку кристаллической круглой продукции, низкую эффективность технического обслуживания оборудования, чтобы свести к минимуму повреждение, вызванное плазмой, для стабильного удаления фоторезиста, а также может использовать различные химические вещества для улучшения процесса удаления фоторезиста с высокой дозой ионной инъекции и может использоваться в различных процессах, таких как нитрид кремния, оксид и металлический слой.
|
проект
|
спецификация
|
|
Размер узла
|
2120W х 1690D х 2170H мм
|
|
Размер вакуумной полости
|
1140W х 1560D х 960H мм
|
|
Настройка электродных панелей
|
16 вертикальных электродных панелей, 15 позиций обработки
|
|
Эффективная область
|
1120 Вт х 640 В мм (44 х 25 дюймов)
|
|
Плазменный источник питания
|
10 кВт, 40 кГц,
|
|
Рабочее давление
|
0.15~0.3Torr, Точность управления 0.1 mTorr
|
|
Потребности в пространстве
|
5060 х 4000 х 2400 (В) мм
|
|
Процессуальное назначение
|
1. удаление шлака с помощью сухого метода Plasma для слепых и сквозных отверстий PCB;
2. Изтравление сухой пленки, запаянных чернил;
3. Очистка и активация поверхности мягкой пластины, медной поверхности;
4. PTFE、 Активация поверхности и отверстий керамической подложки.
|
|
Подходит размер PCB
|
Макс: 25 * 44 дюйма
Мин: 10 * 10 дюймов
|
|
диапазон толщины адаптивной пластины
|
1.0.036 ~ 0.5 мм: требуется специальный поддерживающий инструмент для вспомогательной подвески;
2.0.5 ~ 5 мм может быть непосредственно на подвеске.
|
|
Минимальная апертура обработки
|
Проникающее отверстие 150um, слепое отверстие 60um
|
|
Скорость удаления клея
|
Скорость травления: 0,09 мг / (cm2 * min)
|

|

|
|
многослойная гибкая пластина для удаления шлака: подходит для эпоксидной смолы клея, акрилового клея и других типов клея.
По сравнению с химическим раствором для удаления шлака более стабильным, более тщательным, хорошая скорость может быть увеличена более чем на 20%.
|
Эффект обработки высокочастотных панелей:
|

|

|
|
Высокое соотношение сторон FR - 4 микропористое удаление шлака, высокоTG жесткое удаление шлака:из-захимия
Растущая сила зельяФакторы, приводящие к обезклеиванию шлака лекарственной водой,нетМетод проникает внутрь микроотверстия,
Чтобы удаление шлака было неполным,Плазма не выдерживает.Ограничение размера апертуры, чем меньше апертура, тем больше преимущество
Подсветка.
|
Удаление шлака из мягкой и твердой соединительной пластины: удаление шлака тщательно, избегая атаки перманганата калия на мягкую пластину PI,Стена отверстия выровнена, что повышает надежность и хорошую скорость покрытия отверстия.
|
Компания Fanrui Technology прошла сертификацию CE и ISO 9001. На протяжении многих лет мы непрерывно разрабатываем и получаем множество "патентных сертификатов на полезные модели". Мы сделаем все возможное для достижения прорыва.